特許

J-GLOBAL ID：200903048170171819

ナノ構造体の製造方法及びナノ構造体

発明者： 小中原 馨 ,  田 透
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 山下 穣平 ,  志村 博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-111706
公開番号（公開出願番号）：特開2004-319762
出願日： 2003年04月16日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】簡易な方法で配線等の構造パタンの高機能性化が可能なナノ構造体の製造方法を提供する。【解決手段】ナノインプリント法を用いたナノ構造体の製造方法において、基体13上に硬さの異なる二種類以上の膜を2層以上積層形成してパタン被形成層12を設け、前記パタン被形成層12が上部に設けられた基体13に凹凸構造パタンが形成されたスタンパ11を対向して押し付け、前記パタン被形成層12に前記スタンパ11の凹凸構造パタンを転写する。パタン被形成層12は、金属薄膜18と樹脂を主成分とした薄膜19から成る。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ナノインプリント法を用いたナノ構造体の製造方法において、基体上に硬さの異なる二種類以上の膜を2層以上積層形成してパタン被形成層を設け、前記パタン被形成層が上部に設けられた基体に凹凸構造パタンが形成されたスタンパを対向して押し付け、前記パタン被形成層に前記スタンパの凹凸構造パタンを転写することを特徴とするナノ構造体の製造方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  H01L21/3205

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  H01L21/88 B

Fターム (13件)：

5F033HH11 ,  5F033QQ00 ,  5F033QQ08 ,  5F033QQ09 ,  5F033QQ19 ,  5F033QQ26 ,  5F033QQ27 ,  5F033QQ41 ,  5F046AA20 ,  5F046AA28 ,  5F046NA07 ,  5F046NA11 ,  5F046NA19