マスクのパターン位置の誤差測定方法及びこれに使用される露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松浦憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-311170
公開番号（公開出願番号）：特開2004-146670
出願日： 2002年10月25日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：

【課題】マスクのパターン位置の誤差測定を高精度で行う。【解決手段】露光装置を使用した測定方法である。マスク30に設けられたマークM1と、ウエハ40が搭載されるパレット44に設けられたマークWP1とを、各マークにそれぞれピントを合わせることが可能な2組の結像光学系を有する顕微鏡撮像装置150によって同時に撮像するステップと、得られるマークの画像信号に基づいてマークM1とマークWP1との相対的な位置ずれ量を測定するステップと、パレットを所定距離L移動させるとともに、他の箇所のマークM2と、マークWP1とを同時に撮像するステップと、得られる各マークの画像信号に基づいてマークM2とマークWP1との相対的な位置ずれ量を測定するステップと、パレットの移動距離L及び測定した位置ずれ量に基づいてマスクのパターン位置の誤差を求めるステップと、を含む。【選択図】図9

請求項（抜粋）：

ウエハにマスクを近接配置し、該マスクに形成されたマスクパターンを前記ウエハ上のレジスト層に転写する露光装置を使用したマスクのパターン位置の誤差測定方法であって、前記マスクの2以上の箇所に設けられた位置合わせ用の第1のマークのうちの1箇所の前記第1のマークと、前記ウエハが搭載されるパレット、ウエハステージ又は前記ウエハに設けられた位置合わせ用の第2のマークとを、各マークが設けられた面と直交する方向から同時に撮像するステップであって、前記第1のマーク及び前記第2のマークにそれぞれピントを合わせることが可能な2組の結像光学系を有する顕微鏡撮像装置によって同時に撮像するステップと、前記顕微鏡撮像装置から得られる前記1箇所の第1のマーク及び前記第2のマークの画像信号に基づいて前記第1のマークと前記第2のマークとの相対的な位置ずれ量を測定するステップと、前記第2のマークを前記ウエハステージにより所定距離移動させるとともに、前記顕微鏡撮像装置も略同じ距離移動させ、他の箇所の前記第1のマークと、前記第2のマークとを前記顕微鏡撮像装置によって同時に撮像するステップと、前記顕微鏡撮像装置から得られる前記他の箇所の第1のマーク及び第2のマークの画像信号に基づいて前記第1のマークと第2のマークとの相対的な位置ずれ量を測定するステップと、前記パレットの移動距離及び前記測定した位置ずれ量に基づいて前記マスクのパターン位置の誤差を求めるステップと、を含むことを特徴とするマスクのパターン位置の誤差測定方法。

IPC (4件)：

H01L21/027 , G01B11/00 , G03F9/00 , H01L21/66

FI (6件)：

H01L21/30 541K , G01B11/00 C , G03F9/00 H , H01L21/66 J , H01L21/30 541S , H01L21/30 510

Fターム (43件)：

2F065AA01 , 2F065AA03 , 2F065BB02 , 2F065CC20 , 2F065FF04 , 2F065FF10 , 2F065HH13 , 2F065JJ05 , 2F065JJ09 , 2F065JJ26 , 2F065LL00 , 2F065LL02 , 2F065LL12 , 2F065MM24 , 2F065PP24 , 2F065QQ03 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ31 , 4M106AA01 , 4M106AA07 , 4M106BA04 , 4M106CA39 , 4M106CA50 , 4M106DB18 , 5F046CB02 , 5F046CB17 , 5F046CC02 , 5F046DA16 , 5F046DB05 , 5F046DC04 , 5F046EB02 , 5F046EB03 , 5F046EC05 , 5F046FA10 , 5F046FA17 , 5F056AA22 , 5F056AA25 , 5F056BA10 , 5F056BB10 , 5F056BD03 , 5F056CC07 , 5F056FA06

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭63-158404
プロキシミティ露光装置におけるマスクとワークの位置合わせ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-272489 出願人：ウシオ電機株式会社
特開昭63-158404

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