特許
J-GLOBAL ID：200903048179212917
光学素子成形用型
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-171526
公開番号（公開出願番号）：特開平5-339018
出願日： 1992年06月08日
公開日（公表日）： 1993年12月21日
要約：
【要約】【構成】 本発明は、ガラスよりなる光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型において、?@該型母材の少なくとも成形面に形成された炭素膜と該型母材の界面に酸素が存在し、該酸素量が0〜10atom%であり、かつ存在する界面の幅が0〜500Åである光学素子成形用型、?A該型母材の少なくとも成形面に炭素イオンを注入した光学素子成形用型、並びに?B該型母材の少なくとも成形面に炭素膜を形成すると同時あるいは形成後にイオン注入した光学素子成形用型である。【効果】 本発明は、膜の剥離やクラックが発生しない表面欠陥の少ない鏡面を有し、プレス成形を長時間繰返しても膜剥離やクラック、傷の発生という欠陥を生じない極めて耐久性の高い光学素子成形用型を可能にし、又ガラス光学素子を成形した場合にガラスと型の離型性が極めて良好であり、表面粗さ、面精度、透過率、形状精度の良好な成形品を可能にした。
請求項（抜粋）：
ガラスよりなる光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型において、該型母材の少なくとも成形面に形成された炭素膜と該型母材の界面に酸素が存在し、該酸素量が1〜10atom%であり、かつ存在する界面の幅が5〜500Åであることを特徴とする光学素子成形用型。
IPC (2件)：
引用特許：
審査官引用 (3件)
-
特開平4-037619
-
特開平4-037615
-
特開平3-257031
前のページに戻る
