特許

J-GLOBAL ID：200903048187861355

半導体ウェーハの有機レジスト剥離装置およびこの装置に用いられる処理用カセット

発明者： 野畑 博敬 ,  田中 博司
出願人/特許権者： 島田理化工業株式会社 ,  三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 萩原 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-134845
公開番号（公開出願番号）：特開2000-321790
出願日： 1999年05月14日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：

【要約】【課題】 洗浄に用いる有機レジスト剥離液の使用量が少なくて済み、かつ剥離液の成分の蒸発を抑えることで剥離液の寿命を長くでき、さらに消費電力や装置を小型化することが可能な半導体ウェーハの有機レジスト剥離装置およびこの装置に用いられる処理用カセットを提供すること。【解決手段】 薬液タンク210に貯蔵された有機レジスト剥離液が外気に触れないように、半導体ウェーハ110が収容されたカセット106を処理容器201の一部となるように密着する。このカセット106を洗浄液が流れる洗浄系の一部として使用し、半導体ウェーハ110の洗浄を行う。有機レジスト剥離液により半導体ウェーハ110を洗浄後、この液を再び外気に触れること無く薬液タンクに戻す。その後、リンス液で半導体ウェーハ110を洗浄した後、カセット106を処理容器206から取り外す。

請求項（抜粋）：

処理用カセットに保持された半導体ウェーハの表面に付着している不要なレジストを、レジスト剥離液を用いて除去する半導体ウェーハの有機レジスト剥離装置において、前記レジスト剥離液が貯蔵された薬液タンクと、前記薬液タンクに貯蔵されたレジスト剥離液を用いて前記半導体ウェーハの表面に付着している不要なレジストを除去する処理容器と、前記薬液タンクと前記処理容器との間で前記レジスト剥離液が循環できるように配管された液体配管系と、前記液体配管系に取り付けられ、前記レジスト液を循環させる循環ポンプとを有し、前記処理容器は、前記半導体ウェーハが保持された処理用カセットを含み、前記薬液タンクから供給されたレジスト剥離液が外部に触れない構造であることを特徴とする半導体ウェーハの有機レジスト剥離装置。

IPC (2件)：

G03F 7/34 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/34 ,  H01L 21/30 577

Fターム (4件)：

2H096AA25 ,  2H096LA01 ,  2H096LA03 ,  5F046MA10