特許
J-GLOBAL ID：200903048188265225
位置検出方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-058487
公開番号（公開出願番号）：特開平9-229628
出願日： 1996年02月21日
公開日（公表日）： 1997年09月05日
要約：
【要約】【課題】 複数の波長成分を含む照明光束で格子マークを照明する際の平均化効果を最大限に発揮して高精度な位置検出を実現する。【解決手段】0N次検出法による干渉式アライメント法により、得られる光量信号IAn 、IBn (n=1,2,3)より格子マークの位置ΔX'nを、回路SAn 及び回路CAn (n=1,2,3)により各波長毎に検出する。また、回路SAn では、光量信号IAn 、IBn の相対走査に伴う変化及び格子マークの設計データに基づいて、段差相当量δn を、段差のマーク表面近傍の入射光ビームの各半波長に対する剰余として、各波長毎に算出する。そして、回路SSで各波長毎に検出した格子マークの位置を、段差相当量が入射光ビームの格子マーク表面近傍での各波長の1/4相当量に近いほど大きな重みを付けて加重平均する。
請求項（抜粋）：
微細パターンの形成された基板上に形成された、特定の方向に周期性(周期=P)を持って凹部と凸部を繰り返す格子マークの前記周期方向の位置を検出する位置検出方法であって、前記格子マーク上に、可干渉な光ビームの対を波長の異なる複数組入射し、振幅分布の周期が2P/N(Nは自然数)でその周期方向が格子マークの周期方向と等しい干渉縞を形成するとともに、前記干渉縞と前記格子マークとを前記周期方向に相対走査する第1工程と;前記格子マークによる前記入射光ビームの反射・回折光のうち、第1の光ビームの正反射光と第2の光ビームのN次回折光との合成光束である第1の合成光束と、前記第2の光ビームの正反射光と前記第1の光ビームのN次回折光との合成光束である第2の合成光束とを、それぞれ、かつ、前記複数の波長毎に別々に受光する第2工程と;前記各波長毎の前記第1、第2の合成光束の光量信号の前記相対走査に伴う変化に基づいて各波長毎に前記格子マークの位置を検出する第3工程と;前記格子マークの段差相当量を、前記各波長毎の前記第1、第2の合成光束の光量信号の前記相対走査に伴う変化及び前記格子マークの設計データに基づいて、前記格子マークの段差を前記格子マーク表面近傍の媒質中での前記入射光ビームの各波長の半分で除した剰余として、各波長毎に算出する第4工程と;前記各波長毎に検出した前記格子マークの位置を、前記各波長毎に算出した前記段差相当量が、前記入射光ビームの前記格子マーク表面近傍での各波長の1/4相当量に近いほど大きな重みを付けて加重平均し、その加重平均値を前記格子マークの最終的な検出位置とする第5工程とを含む位置検出方法。
IPC (3件)：
G01B 11/00
, G03F 9/00
, H01L 21/027
G01B 11/00 G
, G03F 9/00 Z
, H01L 21/30 525 W
, H01L 21/30 525 L
