特許
J-GLOBAL ID:200903048190131783
基板保持部材、露光装置及びデバイス製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 青山 正和
, 西 和哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-123712
公開番号(公開出願番号):特開2005-310933
出願日: 2004年04月20日
公開日(公表日): 2005年11月04日
要約:
【課題】 液浸法を適用する場合において、液体の温度変化や温度分布の発生を抑制し、露光精度及び計測精度を維持できる基板保持部材及び露光装置を提供する。【解決手段】 基板ホルダPHは、投影光学系PLと液体LQとを介して基板P上に露光光を照射して基板Pを露光する露光装置で使用される。その基板ホルダPHは、基板Pとの接触面34Aが、基板ホルダPHの基材PBよりも高い面精度で加工可能な材料の機能層35で被覆されている。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置で使用される、前記基板を保持するための基板保持部材において、
前記基板との接触面が、前記基板保持部材の基材よりも高い面精度で加工可能な材料の層で被覆されていることを特徴とする基板保持部材。
IPC (3件):
H01L21/027
, G03F7/20
, H01L21/68
FI (4件):
H01L21/30 515G
, G03F7/20 521
, H01L21/68 P
, H01L21/30 515D
Fターム (10件):
5F031CA02
, 5F031HA02
, 5F031HA10
, 5F031HA13
, 5F031MA27
, 5F046BA03
, 5F046CB24
, 5F046CC01
, 5F046CC08
, 5F046DA27
引用特許:
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