特許
J-GLOBAL ID:200903048192680857

多層配線基板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小鍜治 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-227797
公開番号(公開出願番号):特開平5-067882
出願日: 1991年09月09日
公開日(公表日): 1993年03月19日
要約:
【要約】【目的】 ビアホール形成でYAGレーザを用いた多層配線基板においてビアホール部の上下導体間の接続信頼性を向上させることを目的とする。【構成】 多層配線基板の積層される絶縁層3の材質がYAGレーザで加工できるものでありなおかつ絶縁層3の光学的透過率を60%〜95%に上げることで、ビアホール部が下部導体の露出面積が増えることでビアホール部の上下導体の接続をより安定にできる。
請求項(抜粋):
基板上に配線パターンと絶縁層とを多層に積層した構成とするとともに、前記配線パターンの各層間を電気的に接続するためのビアホール導体を備え、前記絶縁層は光学的透過率が60〜95%の範囲にあることを特徴とする多層配線基板。
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平1-206698
  • 特開昭54-120498
  • 特開昭60-103622

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