特許
J-GLOBAL ID：200903048204001870
ホウ化水素ガス生成方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河内 潤二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-081160
公開番号（公開出願番号）：特開平7-267609
出願日： 1994年03月29日
公開日（公表日）： 1995年10月17日
要約：
【要約】【目的】 窒化ホウ素の蒸着や半導体膜へのドーピング等で使われるために必要な量及び質のホウ化水素をこれを必要とする装置の近くで連続的に供給できるホウ化水素ガス生成方法及び装置を提供。【構成】 真空反応槽3、31、32内で放電プラズマを生成させ、該放電プラズマ中又はこれに接触せしめるよう、該真空反応槽3内にホウ素4、41を配置しかつ水素又は水素と希ガスの混合ガスを導入することにより、ホウ化水素ガスを生成せしめるホウ化水素ガス生成方法及び装置。
請求項（抜粋）：
真空反応槽内で放電プラズマを生成させ、該放電プラズマ中又はこれに接触せしめるよう、該真空反応槽内にホウ素を配置しかつ水素又は水素と希ガスの混合ガスを導入することにより、ホウ化水素ガスを生成せしめることを特徴とするホウ化水素ガス生成方法。
IPC (2件)：
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