特許
J-GLOBAL ID:200903048205501353

投影光学系及びそれを用いた投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-136874
公開番号(公開出願番号):特開2003-029144
出願日: 1997年07月29日
公開日(公表日): 2003年01月29日
要約:
【要約】【課題】 投影光学系に含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正し、高解像度のパターンが得られる投影光学系及びそれを用いた投影露光装置を得ること。【解決手段】 第1物体のパターンを第2物体上に投影する投影光学系において、該投影光学系はそれに含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正する複屈折補正手段を有していること。
請求項(抜粋):
第1物体のパターンを第2物体上に投影する投影光学系において、該投影光学系はそれに含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正する複屈折補正手段を有していることを特徴とする投影光学系。
IPC (5件):
G02B 13/24 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/30 ,  G03F 7/22 ,  H01L 21/027
FI (5件):
G02B 13/24 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/30 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 515 D
Fターム (19件):
2H049AA03 ,  2H049AA13 ,  2H049AA18 ,  2H049AA45 ,  2H049AA55 ,  2H049AA65 ,  2H049BA12 ,  2H049BA42 ,  2H049BA45 ,  2H049BB03 ,  2H049BC21 ,  2H087KA21 ,  2H087NA04 ,  2H087RA42 ,  2H087RA46 ,  5F046BA03 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12

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