特許

J-GLOBAL ID：200903048210531708

放射線照射システム

発明者： 加藤 千昭 ,  佐野 耕一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-306642
公開番号（公開出願番号）：特開平10-146395
出願日： 1996年11月18日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：

【要約】【課題】本発明の目的は、組織領域等のマージンの確定が容易な放射線照射システムを提供することにある。【解決手段】照射計画装置1000は、入力された画像データに対して、設定された照射条件や組織領域に基づいて、線量分布の計算を行い照射計画を策定する。照射計画装置1000は、組織領域の再設定を行う入力装置1200と、入力装置1200から入力された組織領域に基づいて、線量分布の計算を行う演算処理装置1100と、組織領域の再設定の前に設定された組織領域に対して、上記演算処理手段によって計算された線量分布と、組織領域の再設定の後の組織領域に対して、上記演算処理手段によって計算された線量分布とを並列的に表示する表示装置1300から構成されている。

請求項（抜粋）：

入力された画像データに対して、設定された照射条件や組織領域に基づいて、線量分布の計算を行い照射計画を策定する照射計画装置と、この照射計画装置によって策定された照射計画に基づいて、放射線を照射する放射線照射装置とを有する放射線照射システムにおいて、上記照射計画装置は、上記組織領域の再設定を行う入力手段と、この入力手段から入力された組織領域に基づいて、線量分布の計算を行う演算処理手段と、組織領域の再設定の前に設定された組織領域に対して、上記演算処理手段によって計算された線量分布と、組織領域の再設定の後の組織領域に対して、上記演算処理手段によって計算された線量分布とを並列的に表示する表示手段とから構成されることを特徴とする放射線照射システム。

IPC (2件)：

A61N 5/10 ,  A61B 6/00 370

FI (2件)：

A61N 5/10 P ,  A61B 6/00 370