特許

J-GLOBAL ID：200903048214822162

高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法

発明者： 沢津橋 精一
出願人/特許権者： 電気興業株式会社
代理人 (1件)： 奥山 尚一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-154973
公開番号（公開出願番号）：特開2003-342633
出願日： 2002年05月29日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：

【要約】【課題】1つの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数の2周波の高周波加熱電力を同時に供給して、被加熱体の表面からの加熱深さを任意に調整する。【解決手段】本発明の方法は、被加熱体2を高周波誘導加熱する際に、前記被加熱体2の表面からの加熱深さを調整する方法である。前記被加熱体2に使用される1つの高周波加熱コイル3に、低い周波数と高い周波数との2周波の高周波加熱電力を同時に供給して、前記被加熱体2を高周波誘導加熱するとともに、一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分を、任意の配分比又は配分比率に変え、又は前記2周波のそれぞれの高周波電力による加熱時間をそれぞれ独立して任意に変えることにより、前記被加熱体2の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整する方法である。

請求項（抜粋）：

被加熱体を高周波誘導加熱するに際し、前記被加熱体の表面からの加熱深さを調整する方法において、前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数との2周波の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分を、任意の配分比に変えることにより、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整することを特徴とする高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭50-158945
  
• 特表平5-507117
  
• 特開昭62-149809