特許
J-GLOBAL ID：200903048229042953
プラズマ反応装置の使用方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-002680
公開番号（公開出願番号）：特開平6-208971
出願日： 1993年01月11日
公開日（公表日）： 1994年07月26日
要約：
【要約】【目的】 高いエッチング異方性を得ることができるプラズマ反応装置の使用方法を提供する。【構成】 プラズマ生成室とそれに接続された反応室を備えたプラズマ装置において、被処理材に高周波電力を供給しながらプラズマ生成室1の内壁Aにおけるプラズマ損失量が反応室11の内壁Bでのプラズマ損失量の1.5倍以上に設定された状態で被処理材をエッチングすることを特徴としている。
請求項（抜粋）：
プラズマ生成室と、前記プラズマ生成室にマイクロ波を導入する導波管と、前記プラズマ生成室の外周に設けられた磁場発生手段と、前記プラズマ生成室に接続された反応室を備え、前記マイクロ波と前記磁場発生手段による磁場とによって電子サイクロトロン共鳴を励起してプラズマを発生させ、前記プラズマを前記反応室に導き、前記反応室内に設置された被処理材に高周波電力を供給しながら前記プラズマによって前記被処理材を異方性エッチングするプラズマ反応装置の使用方法であって、前記プラズマ生成室内壁におけるプラズマ損失量が前記反応室内壁でのプラズマ損失量の1.5倍以上のなるように設定することによって、前記異方性エッチングにおいて安定した高い異方性を得ることを可能にしたことを特徴とするプラズマ反応装置の使用方法。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, C23F 4/00
, H05H 1/46
