特許
J-GLOBAL ID:200903048231167151
光導波路付き基板およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-091856
公開番号(公開出願番号):特開2002-286957
出願日: 2001年03月28日
公開日(公表日): 2002年10月03日
要約:
【要約】【課題】 同じポリイミド材料を基板と光導波路の両方に使用しているにも関わらず、それぞれ作製手法が異なるために製造コストが高くなるという問題点を解決する。【解決手段】 高分子光導波路用の高分子基板の作製、及び高分子光導波路の作製方法において、高分子基板の積層体を形成する過程で、その最外層及びその内側の層に光導波路のコアとクラッドとなるフィルムを準備し、基板ようの積層フィルムと一緒に一括して加熱圧着することで、光導波路用基板と光導波路のクラッド層やコア層を一括して作製する。
請求項(抜粋):
1種類または2種類以上の高分子フィルムが複数層積層され、その最外層に高分子光導波路のクラッド層が積層されるとともに加熱圧着されてなる積層体からなる光導波路付き基板。
IPC (3件):
G02B 6/122
, G02B 6/13
, G02B 6/12
FI (3件):
G02B 6/12 A
, G02B 6/12 M
, G02B 6/12 N
Fターム (6件):
2H047KA02
, 2H047KA04
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047TA42
, 2H047TA43
引用特許:
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