特許

J-GLOBAL ID：200903048237302662

スピン洗浄乾燥方法及び装置

発明者： 大石 正浩
出願人/特許権者： 島田理化工業株式会社
代理人 (1件)： 栂村 繁郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-119604
公開番号（公開出願番号）：特開平5-291230
出願日： 1992年04月14日
公開日（公表日）： 1993年11月05日
要約：

【要約】【目的】 基板下面に残留する水滴をなくし、効率よく乾燥する。【構成】 筺体1内に設けた、基板8をスピンチャック9,9...で保持するステージ5を、回転させて基板8を回転させながら基板8の上下からリンス液を放射して洗浄を行い、その後、基板8を高速回転させながら基板8の上下からリンス液を置換させるための置換ガスを吹付けて乾燥させることを特徴とするスピン洗浄乾燥方法及び装置。

請求項（抜粋）：

筺体内に設けた、基板をスピンチャックで保持するステージを、回転させて基板を回転させながら基板の上下からリンス液を放射して洗浄を行い、その後、基板を高速回転させながら基板の上下からリンス液を置換させるための置換ガスを吹付けて乾燥させることを特徴とするスピン洗浄乾燥方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 361

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-185029
  
• 特開昭62-166517