特許

J-GLOBAL ID：200903048239178357

高充填性窒化ホウ素粉末及びその製造方法

発明者： 桑原 治由 ,  進藤 敏彦
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-015822
公開番号（公開出願番号）：特開平10-194711
出願日： 1997年01月13日
公開日（公表日）： 1998年07月28日
要約：

【要約】【課題】 充填密度が高く、このため成形体製造時に仕込み量を多くし得、大きな成形体を製造することができる高充填性窒化ホウ素粉末を得る。【解決手段】 タップ密度が0.5g/cm3以上であり、かつBET比表面積が10m2/g以上であることを特徴とする高充填性窒化ホウ素粉末。還元窒化法によって得られたBET比表面積が5m2/g以下の窒化ホウ素粉末を乾式撹拌粉砕機を用いて粉砕し、上記高充填性窒化ホウ素粉末を得る。

請求項（抜粋）：

タップ密度が0.5g/cm3以上であり、かつBET比表面積が10m2/g以上であることを特徴とする高充填性窒化ホウ素粉末。

IPC (2件)：

C01B 21/064 ,  C04B 35/626

FI (3件)：

C01B 21/064 H ,  C01B 21/064 M ,  C04B 35/58 103 R