特許
J-GLOBAL ID：200903048239911909
X線イメ-ジ管の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-073299
公開番号（公開出願番号）：特開平8-273542
出願日： 1995年03月30日
公開日（公表日）： 1996年10月18日
要約：
【要約】【目的】この発明は、光電面の形成時の制約を全くなくし、且つ、管内異物や真空度の低下等の製品の品質を落とさずに厚さが一様な光電面を形成するX線イメージ管の製造方法を提供することを目的とする。【構成】この発明のX線イメージ管の製造方法は、真空外囲器21内の入力蛍光体層9上に直接又は間接に光電面11を形成する際、真空外囲器内に不活性ガスを排気系32から導入して真空外囲器内の圧力を10Paから103 Paの範囲に保ち、真空外囲器内に設けたボ-ト28からアルカリ金属をスプラッシュ状に飛散させて入力蛍光体層上に光電面を形成することにより、上記の目的が達成される。
請求項（抜粋）：
真空外囲器内の入力蛍光体層上に直接又は間接に光電面を形成するX線イメ-ジ管の製造方法において、上記真空外囲器内に不活性ガスを排気系から導入して上記真空外囲器内の圧力を10Paから103 Paの範囲に保ち、上記真空外囲器内に設けたボ-トからアルカリ金属をスプラッシュ状に飛散させて上記入力蛍光体層上に上記光電面を形成することを特徴とするX線イメ-ジ管の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 9/233 J
, H01J 31/50 A
