特許
J-GLOBAL ID：200903048261076916
ポジ型フォトレジスト現像液
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小堀 貞文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-069294
公開番号（公開出願番号）：特開平6-089031
出願日： 1991年03月08日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：
【要約】【目的】 安定した現像速度で現像できしかも精度の高い超微細加工が可能なポジ型フォトレジスト現像液を提供する。【構成】 塩素イオンの含有量が50ppb以下である水酸化テトラアルキルアンモニウムの水溶液からなる。【効果】 高解像度で微細なパターンが得られると共に、スカムの発生が殆どなく優れたプロファイルを得ることができる。
請求項（抜粋）：
塩素イオン含有量が50ppb以下である水酸化アルキルアンモニウム水溶液からなるポジ型フォトレジスト現像液。
IPC (2件)：
引用特許：
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