特許

J-GLOBAL ID：200903048262864721

レチクル容器、露光方法及びデバイス製造方法

発明者： 今井 俊三
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-202847
公開番号（公開出願番号）：特開2000-019721
出願日： 1998年07月03日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】 ぺリクル付きレチクル内及びその周辺部に高純度で不活性ガスを充填した状態で露光を行なう。【解決手段】 ぺリクル3付きレチクル1を収納して搬送するための容器であって、容器内部に不活性ガスを充填した状態で搬送できる構造のレチクル容器(16、17、20)、並びにこの容器を利用した露光方法及びデバイス製造方法。

請求項（抜粋）：

ぺリクル付きレチクルを収納して搬送するための容器であって、該容器内部に不活性ガスを充填した状態で搬送できるような構造を有することを特徴とするレチクル容器。

IPC (4件)：

G03F 1/14 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/14 M ,  G03F 1/14 J ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 503 E

Fターム (16件)：

2H095BA06 ,  2H095BB29 ,  2H095BC31 ,  2H095BE11 ,  2H095BE12 ,  2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097CA17 ,  2H097DA01 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046AA21 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046CA04 ,  5F046DA27