特許

J-GLOBAL ID：200903048265825913

使用性の良好なフェイスマスク

発明者： 中村 憲司 ,  中村 興司
出願人/特許権者： 中村 憲司 ,  中村 興司
代理人 (2件)： 児玉 喜博 ,  長谷部 善太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-145739
公開番号（公開出願番号）：特開2004-097785
出願日： 2003年05月23日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：

【課 題】使用時に含浸液が乾燥まで長時間で、顔に貼ってパック剤の有効成分の十分な吸収可能な含浸タイプの使用性の良いフェイスマスクの提供。【解決手段】目付60g/m2以下のセルロース不織布を主材として、合成繊維の配合で補強又はセルロース不織布の片面又は内部にフイルムの重ね合わせで補強されたシー基材であって、湿潤時の引張力で3.9N/5cmにおける伸率が30%以下、JISL1913(1998)カンチレバー法による剛軟度が5mN・cm以下であり、且つ、該シート基材に0.5Pa・sec以上10Pa・sec以下の粘度のパック用化粧液を基材重量に対して50%以上含浸してなることを特徴とする含浸タイプの折畳まれて外方に突出した1以上の摘み部を有するフェイスマスク。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

目付60g/m2以下のセルロース不織布をシート基材として、折畳まれて外方に突出した少なくとも1以上の摘み部を有する含浸タイプのフェイスマスクにおいて、該不織布基材が補強されてなり、湿潤時の引張力3.9N/5cmにおける伸率が30%以下、JISL1913(1998)カンチレバー法による剛軟度が5mN・cm以下のシート基材であって、粘度0.5〜10Pa・secの粘度のパック用化粧液を50wt%以上含浸せしめてなることを特徴とするフェイスマスク。

IPC (1件)：

A45D44/22

FI (1件)：

A45D44/22 C