特許
J-GLOBAL ID：200903048269205723
基板光照射処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-265851
公開番号（公開出願番号）：特開平7-099167
出願日： 1993年09月28日
公開日（公表日）： 1995年04月11日
要約：
【要約】【目的】 加熱プレートの均熱性を損なわずに基板が必要以上に高温で加熱されることを回避する。【構成】 処理室9内に、板状ヒータ10を備えるとともに上端面が基板Wの面積と同等またはそれ以上の加熱面Hを有する加熱プレート12と、基板Wの上方から加熱する紫外線ランプ16とを内設し、かつ、加熱プレート12の加熱面Hを囲む環状の冷却面Cを有する水冷ジャケット20を設ける。
請求項（抜粋）：
加熱手段を有し、上端面が基板を支持して加熱する加熱面をなす加熱プレートと、前記基板の上方に配置された光照射手段を備え、基板を前記加熱プレートで所要温度にした状態で、前記光照射手段からの光を基板に照射するようにした基板光照射処理装置において、前記加熱プレートの加熱面を囲む環状の冷却面を有する冷却手段を、前記加熱プレートとの間を離して設けたことを特徴とする基板光照射処理装置。
IPC (2件)：
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