特許

J-GLOBAL ID：200903048277212070

露光用マスクの異物除去方法

発明者： 中里 進司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-115930
公開番号（公開出願番号）：特開2004-327485
出願日： 2003年04月21日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：

【課題】露光マスクに付着した異物の除去。【解決手段】ステージ上に異物を除去、清掃するための粘着剤パターン部を設置したクリーンユニットを置き一定露光時間もしくは設定間隔が経過した時点、あるいは異物検出手段により露光用マスクへの異物の付着を検出したときにクリーンユニットが設置されたステージを清掃ポジションに移動することにより付着した異物を粘着剤層に吸着し除去する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

露光用マスクを粘着剤パターン部に密着・剥離動作させ異物を取り去ることを特徴とするごみ除去方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 503G ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 502D

Fターム (9件)：

5F046AA18 ,  5F046BA01 ,  5F046BA10 ,  5F046CB17 ,  5F046DA20 ,  5F046DA21 ,  5F046DA23 ,  5F046DA24 ,  5F046DA27