特許

J-GLOBAL ID：200903048281675158

フォトレジスト剥離液

発明者： 武田 貴志
出願人/特許権者： ヘキストジャパン株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-187182
公開番号（公開出願番号）：特開平7-084375
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：

【要約】【構成】 下記一般式化1で表わされるプロピレングリコール(誘導体)5〜100重量%と、下記一般式化2で表わされるピロリドン類95〜0重量%との混合物からなる。【化1】〔式中、R1、R2はそれぞれ単独で水素原子、アルキル基又は-CO-R(式中、Rはアルキル基を示す)を示し、またnは2又は3を示す。〕【化2】(式中、R3は水素原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基又はアミノアルキル基を示す。)【効果】 剥離液自体の温度が常温であっても、短時間でフォトレジストを完全に剥離することができ、しかも剥離能力が長時間維持される。また、引火点が比較的高く、且つ毒性が比較的低く、その上剥離後の工程において水洗浄が可能である。

請求項（抜粋）：

下記一般式化1で表わされる少なくとも一種のプロピレングリコール又はその誘導体5〜100重量%と、下記一般式化2で表わされる少なくとも一種のピロリドン類95〜0重量%とからなることを特徴とするフォトレジスト剥離液。【化1】〔式中、R1、R2はそれぞれ単独で水素原子、アルキル基又は-CO-R(式中、Rはアルキル基を示す)を示し、またnは2又は3を示す。〕【化2】(式中、R3は水素原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基又はアミノアルキル基を示す。)

IPC (4件)：

G03F 7/42 ,  C07C 11/06 ,  C07D207/00 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭57-202540
  
• 特開昭64-081949
  
• 特開昭60-026340
  
• 特開昭62-095531