特許

J-GLOBAL ID：200903048285035048

感光性組成物およびそれを用いたパターン形成方法

発明者： 斎 藤 聡 ,  木 原 尚 子
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-253612
公開番号（公開出願番号）：特開平11-095424
出願日： 1997年09月18日
公開日（公表日）： 1999年04月09日
要約：

【要約】【課題】 300〜500nmの放射線および波長が300nm未満の放射線のそれぞれに対して高感度であり、解像度が高い感光性組成物、ならびに微細なパターンを高いスループットで生産できるパターン形成方法の提供。【解決手段】 (1)1,2-ナフトキノンジアジド4-または5-スルホン酸エステル基を少なくとも一つ、および酸触媒反応によって分解してアルカリ可溶性基に変化する基を少なくとも一つ有する化合物、(2)前記(1)とは異なる、波長が300nm未満の放射線を照射されることにより酸を発生する化合物、および(3)アルカリ可溶性樹脂を含んでなることを特徴とする感光性組成物、ならびに(a)前記の感光性組成物を含んでなる感光成層を形成させる工程、(b)前記感光性層に波長が300〜500nmの放射線を照射する工程、(c)前記感光性層に波長が300nm未満の放射線を照射する工程(d)放射線照射された感光性層を熱処理する工程、および(e)熱処理された感光性層を現像処理する工程。

請求項（抜粋）：

下記の(1)〜(3)を含んでなることを特徴とする感光性組成物。(1)1,2-ナフトキノンジアジド4-または5-スルホン酸エステル基を少なくとも一つ、および酸触媒反応によって分解してアルカリ可溶性基に変化する基を少なくとも一つ有する化合物、(2)前記(1)とは異なる、波長が300nm未満の放射線を照射されることにより酸を発生する化合物、および(3)アルカリ可溶性樹脂。

IPC (6件)：

G03F 7/022 601 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/022 601 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R