特許
J-GLOBAL ID：200903048285449209
顕微鏡撮像装置および方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金田 暢之 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-542491
公開番号（公開出願番号）：特表2000-506634
出願日： 1998年04月03日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：
【要約】物体が光源(10)により照明され、透明および非透明のストライプの周期的パターンが物体(0)に重畳される。少なくとも3つの像が、浅い焦点深度の顕微鏡により、パターンの異なる空間的位相で記録される。次に、合焦細部のみを有する3次元像が、周期的パターンを除去する画像処理により、記録像から導出される。照明マスク(14)あるいは2つのコヒーレントなビームの干渉縞が、周期的パターンを生成する。マスクのシフト、あるいはコヒーレントなビームの時間的位相差を調整することにより、異なる空間位相が生成される。
請求項（抜粋）：
試料の像を生成する方法であって、 前記試料を光源により照明するステップと、 前記試料の上にほぼ周期的な空間的パターンを生成するステップと、 前記試料の第1の像を記録するステップと、 前記試料の上の前記パターンの空間位相を変えて前記試料の第2の像を記録するステップと、 前記試料の上の前記パターンの前記空間位相を変えて前記試料の第3の像を記録するステップを少なくとも1回繰り返すステップであって、前記試料の少なくとも3つの記録像における前記パターンの前記空間位相が異なっているステップと、 前記空間的パターンを前記像から除去し、それにより前記試料の光学的切片像を生成するために、前記試料の前記3つ以上の記録像を解析するステップと、 を有する試料の像を生成する方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 21/36
, G01B 11/24 K
