特許
J-GLOBAL ID：200903048300884472
複合圧電物質製造方法及び複合圧電物質製造用マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-147248
公開番号（公開出願番号）：特開平9-330864
出願日： 1996年06月10日
公開日（公表日）： 1997年12月22日
要約：
【要約】【課題】 LIGAプロセスによって所定の構造を有する複合圧電物質を製造する際にX線マスクに要する費用を低く抑えることが可能な複合圧電物質製造方法及びその複合圧電物質製造用マスクを実現する。【解決手段】 シンクロトロン放射X線で露光,現像して複合圧電物質をリソグラフィにより製造する複合圧電物質製造方法であって、シンクロトロン放射X線で露光する際に使用するマスクとして電鋳法により作製された規則的なパターンを有する金網を使用することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
シンクロトロン放射X線で露光,現像して複合圧電物質をリソグラフィにより製造する複合圧電物質製造方法であって、シンクロトロン放射X線で露光する際に使用するマスクとして金網を使用することを特徴とする複合圧電物質製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 531 M
, H01L 41/22 Z
