特許
J-GLOBAL ID：200903048303437744
プラズマエッチング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮井 暎夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-020948
公開番号（公開出願番号）：特開平11-219938
出願日： 1998年02月02日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：
【要約】【課題】 マイクロローディング効果のおもな原因と考えられるラジカルあるいは反応生成物の輸送過程に起因した問題、あるいはエッチング形状の異常、特にゲートエッチングにおけるノッチのおもな原因と考えられるチャージアップに起因した問題を解決しうるプラズマエッチング方法を得る。【解決手段】 真空室に供給された反応ガスを、真空室に供給される高周波電力5によりプラズマ化し、そのプラズマ6で真空室内の試料7をエッチングするプラズマエッチング方法であって、被エッチング試料7へ投入するバイアス電力をパルス変調または供給する反応ガスを交互に切り替えて供給するものである。または、被エッチング試料7のオーバーエッチ時に、供給する高周波電力5をパルス変調する。
請求項（抜粋）：
真空室に供給された反応ガスを、前記真空室に供給される高周波電力によりプラズマ化し、そのプラズマで前記真空室内の試料をエッチングするプラズマエッチング方法であって、被エッチング試料へ投入するバイアス電力をパルス変調することを特徴とするプラズマエッチング方法。
IPC (3件)：
H01L 21/3065
, C23F 4/00
, H05H 1/46
H01L 21/302 B
, C23F 4/00 A
, H05H 1/46 A
