特許
J-GLOBAL ID：200903048310426111
堆積膜形成方法および堆積膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-343757
公開番号（公開出願番号）：特開平6-196407
出願日： 1992年12月24日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：
【要約】【目的】マイクロ波プラズマCVD法により、欠陥が少なく均一で特性に優れた機能性堆積膜を安価に安定して歩留まり良く再現性よく高速で形成できるようにする。【構成】?@成膜室108に複数のマイクロ波アプリケータ105,106を取り付け、1台のマイクロ波発振機101からのマイクロ波を可変分配器102でこれら各マイクロ波アプリケータ105,106に分配して供給する。あるいは、?A基体表面が放電空間と非放電空間との間を交互に移動するようにし、基体表面に対する堆積膜の形成と可視〜紫外光の照射とが交互に行なわれるようにする。
請求項（抜粋）：
基体が保持され真空を保持し得る成膜室と、前記成膜室にマイクロ波電力を供給するマイクロ波供給手段と、前記成膜室内に原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、前記成膜室に接続された排気手段とを有し、マイクロ波プラズマCVD法によって前記基体の表面に堆積膜を形成する堆積膜形成装置において、前記マイクロ波供給手段が、少なくとも、マイクロ波発振機と、前記マイクロ波発振機に接続されマイクロ波の分配を行ない分配比が調整可能である電力分配器と、一端が前記成膜室に取り付けられて前記電力分配器からのマイクロ波電力を前記成膜室に導入するマイクロ波アプリケータと、前記マイクロ波アプリケータに供給されるマイクロ波電力を測定する電力測定手段とによって構成されていることを特徴とする堆積膜形成装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C23C 16/50
, H01L 21/31
