特許
J-GLOBAL ID:200903048319105520

表面状態検査方法及びそれを用いた表面状態検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-316563
公開番号(公開出願番号):特開平6-148086
出願日: 1992年10月30日
公開日(公表日): 1994年05月27日
要約:
【要約】【目的】 レチクル面上に付着したゴミや埃等の異物の有無を回路パターンと弁別して検出することができる表面状態検査方法及びそれを用いた表面状態検査装置を得ること。【構成】 照明系から射出した周波数が異なり、かつ互いに振動面が直交する2つの偏光を含むビームを分岐手段で第1ビームと第2ビームの2つのビームに分岐し、このうち該第1ビームを第1検出器に導光して第1ビート信号を作成し、該第2ビームを金属性光遮光部でパターニングした光透過性の基板の非パターン面側から入射させ、パターン面からの反射光を第2検出器に導光して第2ビート信号を作成し、該第1ビート信号と第2ビート信号との位相差を位相差検知手段により求めることにより、該基板のパターン面の表面状態を検査したこと。
請求項(抜粋):
照明系から射出した周波数が異なり、かつ互いに振動面が直交する2つの偏光を含むビームを分岐手段で第1ビームと第2ビームの2つのビームに分岐し、このうち該第1ビームを参照光として第1検出器に導光して第1ビート信号を作成し、該第2ビームを信号光として金属性光遮光部でパターニングした光透過性の基板の非パターン面側から入射させ、パターン面からの反射光を第2検出器に導光して第2ビート信号を作成し、該第1ビート信号と第2ビート信号との位相差を位相差検知手段により求めることにより、該基板のパターン面の表面状態を検査したことを特徴とする表面状態検査装置。
IPC (2件):
G01N 21/88 ,  G01B 11/30

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