特許

J-GLOBAL ID：200903048328497121

反応性ホスフィンオキシド類、及びこれを配位子として有する半導体超微粒子

発明者： 加和 学
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-293693
公開番号（公開出願番号）：特開2002-105090
出願日： 2000年09月27日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：

【要約】【課題】 量子効果により制御された吸発光能や高い屈折率を有する新規な半導体超微粒子を提供する。【解決手段】 ラジカル反応性基を結合してなるホスフィンオキシド類、及びこれを配位子として有する半導体超微粒子。

請求項（抜粋）：

ラジカル反応性基を結合してなるホスフィンオキシド類。

Fターム (4件)：

4H050AA01 ,  4H050AA03 ,  4H050AB78 ,  4H050AB91