特許

J-GLOBAL ID：200903048341973030

露光精度測定パターン及び露光精度測定方法

発明者： 春日 卓
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-339198
公開番号（公開出願番号）：特開平10-177946
出願日： 1996年12月19日
公開日（公表日）： 1998年06月30日
要約：

【要約】【課題】 露光精度測定パターンの形成面積の縮小化と露光精度測定に必要な時間の短縮化を図る。【解決手段】 第1露光領域11と第2露光領域12及び第3露光領域13との重ね合わせ精度と、第2露光領域12と第3露光領域13とのつなぎ合わせ精度とを測定する露光精度測定パターン1 であり、第1露光領域11の露光で形成される第1測定パターン21と、第2露光領域12の露光で形成される第2測定パターン22と、第3露光領域13の露光で形成される第3測定パターン23とからなる。第1測定パターン21は、x軸パターン21x1,21x2とy軸パターン21y1,21y2 とで構成される。第2測定パターン22は、x軸パターン22x1,22x2 とy軸パターン22y1,22y2 とで構成され第1測定パターン21と所定間隔を保つように配置される。第3測定パターン23は、第2測定パターン22との所定間隔を保つように第2測定パターン22の内側に配置される。

請求項（抜粋）：

第1露光領域と第2露光領域との重ね合わせ精度と、前記第1露光領域と第3露光領域との重ね合わせ精度と、前記第2露光領域と前記第3露光領域とのつなぎ合わせ精度とを測定する露光精度測定パターンであって、前記第1露光領域,第2露光領域または第3露光領域の露光によって形成された第1測定パターンと、前記第1測定パターンに対して所定の位置関係が保たれるように、前記各露光領域のうち前記第1測定パターンとは異なる露光領域の露光によって形成された第2測定パターンと、前記第1測定パターン及び第2測定パターンに対して所定の位置関係が保たれるように、前記各露光領域のうち前記第1測定パターン及び第2測定パターンとは異なる露光領域の露光によって形成された第3測定パターンとからなることを特徴とする露光精度測定パターン。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G01B 15/00 ,  G01B 21/00 ,  G03F 7/20 521

FI (6件)：

H01L 21/30 502 M ,  G01B 11/00 A ,  G01B 15/00 B ,  G01B 21/00 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 Z