特許

J-GLOBAL ID：200903048345441695

細孔構造体及びその製造方法

発明者： 今田 彩 ,  田 透
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-317681
公開番号（公開出願番号）：特開2003-129288
出願日： 2001年10月16日
公開日（公表日）： 2003年05月08日
要約：

【要約】【課題】 細孔が規則的に配列した細孔構造体を簡易に製造する方法を提供する。【解決手段】 被加工物を陽極酸化もしくは陽極化成する工程を含む細孔構造体の製造方法において、前記被加工物1上にブロックコポリマー層2を形成する工程(1)、前記ブロックコポリマー層2を熱アニールし海島構造3,4を形成する工程(2)、前記海島構造3,4を有するブロックコポリマー層2の島構造4を除去する工程(3)、前記被加工物を陽極酸化もしくは陽極化成して前記ブロックコポリマー層の構造を反映したナノ細孔構造を形成する工程(4)を有する細孔構造体の製造方法。

請求項（抜粋）：

被加工物を陽極酸化もしくは陽極化成する工程を含む細孔構造体の製造方法において、前記被加工物上にブロックコポリマー層を形成する工程(1)、前記ブロックコポリマー層を熱アニールし海島構造を形成する工程(2)、前記海島構造を有するブロックコポリマー層の島構造を除去する工程(3)、前記被加工物を陽極酸化もしくは陽極化成する工程(4)を有することを特徴とする細孔構造体の製造方法。

IPC (8件)：

C25D 11/00 308 ,  B82B 3/00 ,  C23F 1/00 ,  C23F 1/00 102 ,  C23F 1/02 ,  C23F 4/00 ,  C25D 11/18 308 ,  G11B 5/84

FI (8件)：

C25D 11/00 308 ,  B82B 3/00 ,  C23F 1/00 A ,  C23F 1/00 102 ,  C23F 1/02 ,  C23F 4/00 A ,  C25D 11/18 308 ,  G11B 5/84 Z

Fターム (13件)：

4K057DA12 ,  4K057DB05 ,  4K057DB06 ,  4K057DB17 ,  4K057DN01 ,  4K057WA11 ,  4K057WA12 ,  4K057WB05 ,  4K057WB06 ,  4K057WB17 ,  4K057WC08 ,  4K057WN01 ,  5D112GA29