微細気孔膜およびその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：朝日奈宗太 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-520892
公開番号（公開出願番号）：特表2001-523548
出願日： 1998年11月16日
公開日（公表日）： 2001年11月27日
要約：

【要約】(ポリマーの融点+10°C)〜(ポリマーの融点+100°C)の温度で押出して押出物を形成する段階、前記押出物を10〜150°C、5〜120m/分の速度で巻き取ってフィルムを製造する段階、前記フィルムを(ポリマーの融点-100°C)〜(ポリマーの融点-5°C)の温度で10秒〜1時間アニーリングする段階、10-2〜10-7トールの真空度とイオンビーム照射距離5〜100cmで前記アニーリングしたフィルムの一面または両面に10-2〜107KeVのイオン粒子エネルギーおよび102〜1020ions/cm2のイオン粒子照射量を有するイオン粒子を照射する段階、前記イオン粒子が照射されたフィルムを-20°C〜(ポリマーの融点-40°C)の温度で冷延伸する段階、前記の冷延伸したフィルムを(ポリマーの融点-40°C)〜(ポリマーの融点-5°C)の温度で高温延伸する段階、および前記の高温延伸したフィルムを(ポリマーの融点-80°C)〜(ポリマーの融点-5°C)の温度で熱固定する段階からなる微細気孔膜の製造方法を提供する。

請求項（抜粋）：

真空状態でポリマーフィルムにエネルギーを有するイオン粒子を照射する微細気孔膜の製造方法。

IPC (5件)：

B01D 67/00 , B01D 69/00 , B01D 71/26 , C08J 7/00 302 , C08L 23:02

FI (5件)：

B01D 67/00 , B01D 69/00 , B01D 71/26 , C08J 7/00 302 , C08L 23:02

Fターム (31件)：

4D006GA41 , 4D006GA47 , 4D006KE01R , 4D006KE06R , 4D006KE16R , 4D006KE28R , 4D006KE30R , 4D006MA06 , 4D006MA22 , 4D006MA27 , 4D006MC22X , 4D006MC23X , 4D006MC85 , 4D006MC86 , 4D006NA21 , 4D006NA32 , 4D006NA36 , 4D006NA51 , 4D006NA58 , 4D006NA62 , 4D006PC80 , 4F073AA06 , 4F073BA07 , 4F073BA08 , 4F073BB01 , 4F073CA51 , 4F073CA72 , 4F073GA01 , 4F073GA05 , 4F073HA03 , 4F073HA11

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開平2-020531
特開平4-141222

前のページに戻る