特許
J-GLOBAL ID：200903048387337154
同位体分析装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-330405
公開番号（公開出願番号）：特開平6-174638
出願日： 1992年12月10日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：
【要約】【目的】 高精度かつ容易に同位体比を測定するとともに、かつ低価格な装置を提供することである。【構成】 半導体レーザ1の発振波長を掃引し、これにより試料セル2内の同位体ガスの光吸収スペクトルを測定し、同位体の光吸収量より同位体の存在比を求める同位体分析装置において、微量同位体と多量同位体の吸収量の差を同程度とするために、微量同位体と多量同位体の吸収量のスペクトル測定時に照射するレーザ光強度を同位体の天然存在比と微量同位体の吸収係数、多量同位体の吸収係数よりそれぞれ求め、微量同位体のスペクトル測定時と多量同位体のスペクトル測定時のレーザ光強度を制御する光強度制御器11を備えてなる。
請求項（抜粋）：
半導体レーザの発振波長を掃引し、これにより試料セル内の同位体ガスの光吸収スペクトルを測定し、同位体の光吸収量より同位体の存在比を求める同位体分析装置において、微量同位体と多量同位体との吸収量のスペクトル測定時に照射するそれぞれのレーザ光強度を、同位体の天然存在比と微量同位体の吸収係数及び多量同位体の吸収係数よりそれぞれ求め、微量同位体のスペクトル測定時と多量同位体のスペクトル測定時のレーザ光強度を、微量同位体と多量同位体との吸収量の差を実質的に同程度とするように、制御する光強度制御器を有することを特徴とする同位体分析装置。
IPC (2件)：
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