投影露光装置及び投影露光方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：川北喜十郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-175419
公開番号（公開出願番号）：特開平9-007933
出願日： 1995年06月19日
公開日（公表日）： 1997年01月10日
要約：

【要約】【目的】ステップアンドスキャン方式の投影露光においてウエハのジグザグ走行によるステッピング時間を除去して、露光工程におけるスループットを向上する。【構成】マスクとウエハを相対走査しながらマスク上のパターンを感光基板上に露光するステップアンドスキャン方式の投影露光装置である。2枚のマスク2A.Bをそれぞれ一次元方向に移動する2つのマスクステージ11,14と、走査露光が行われるマスクのみに照明光をもたらす2つのブラインド23,25とを用い、一ショット領域の走査露光が行われる毎に、2枚のマスクを交互に照明して、一方のマスクが走査露光されているときに他方のマスクを走査開始位置に移動させる。この動作を繰り返すことにより、ウエハの走査方向に配列した複数のショットを連続的に走査露光できる。

請求項（抜粋）：

マスクと感光基板を一次元方向に同期走査しながらマスク上のパターン像を感光基板上に露光する投影露光装置であって、2枚以上のマスクをそれぞれ一次元方向に移動する2つ以上のマスクステージと、上記マスク上のパターン像を上記感光基板上に投影する投影光学系と、上記感光基板を上記投影光学系の光軸と直交する2次元方向に移動する感光基板ステージと、上記感光基板ステージの移動に連動して、上記2つ以上のマスクステージの移動を制御して2枚以上のマスクの各パターン像で感光基板を走査露光するためのマスクステージ制御手段と、上記マスクの位置に同期して、走査露光が行われるマスクを順次照明する照明系とを備える上記投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 514 C , H01L 21/30 516 B

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