特許
J-GLOBAL ID：200903048390675109
位置合わせ方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-304525
公開番号（公開出願番号）：特開平8-162392
出願日： 1994年12月08日
公開日（公表日）： 1996年06月21日
要約：
【要約】【目的】 ショット内多点EGA方式のアライメントを行う場合に、スループットを大きく低下させることなく、位置合わせ精度を向上する。【構成】 ロットの先頭のウエハについては、LIA系、及びFIA系を用いてそれぞれショット内多点EGA方式のアライメントを行い、得られたLIAパラメータ、FIAパラメータ、及び両者の差を記憶する(ステップ103〜105)。2枚目以降のウエハへの露光を行う際には、LIA系を用いて通常のEGA方式でアライメントを行い(ステップ110)、得られたEGAパラメータ中のスケーリング成分については記憶されている差で補正を行い、ショット内パラメータは記憶されている値を使用して各ショット領域の配列座標を算出する(ステップ111)。
請求項（抜粋）：
N(Nは2以上の整数)枚の基板中の各基板毎に、該基板上に設計上の配列座標に従って2次元的に配列された複数のショット領域のそれぞれを、前記基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の基準位置に対して位置合わせするに際して、前記複数のショット領域の内、予め選択されたショット領域の前記静止座標系における座標位置を計測し、該計測された複数の座標位置を統計演算することによって、前記複数のショット領域のそれぞれの前記静止座標系上における座標位置を算出し、該算出された座標位置に従って前記基板の移動位置を制御することによって、前記複数のショット領域のそれぞれを前記基準位置に対して位置合わせする方法において、前記統計演算によって算出された座標位置に従ってk(kは2以上でN以下の整数)枚目以降の基板上の複数のショット領域のそれぞれを前記基準位置に対して位置合わせするのに先だって、(k-1)枚目までの基板の内少なくとも1枚については、2つのアライメントセンサを用いてショット領域内の複数点での1次元又は2次元の位置計測を行うと共に、それぞれのアライメントセンサで計測された座標位置の統計演算結果の差分、及びそれぞれのアライメントセンサで計測された座標位置のショット領域内での統計演算結果を求めて記憶し、k枚目以降の位置合わせに際しては、前記2つのアライメントセンサの内の一方のアライメントセンサのみによりショット領域内の1点での1次元又は2次元の位置計測を行い、該計測結果を統計演算して得られた結果を、既に記憶した前記2つのアライメントセンサで計測された座標位置の統計演算結果の差分、及び2つのアライメントセンサのそれぞれで計測された座標位置の前記ショット領域内での統計演算結果を用いて補正し、該補正結果に基づいて位置合わせすることを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 M
, H01L 21/30 525 W
