特許
J-GLOBAL ID：200903048417236323
液晶素子の製造方法及びその製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-364839
公開番号（公開出願番号）：特開2000-187221
出願日： 1998年12月22日
公開日（公表日）： 2000年07月04日
要約：
【要約】【課題】 配向膜の配向処理速度の向上と安定した液晶分子配向とを実現すると共に、生産性の高い液晶素子の製造方法及びその製造装置を提供すること。【解決手段】 基板17に形成した紫外線反応型配向膜17aに紫外線13を照射して配向処理をする際に、基板17の紫外線反能配向膜非形成面に温風21を吹きつけて基板17を加熱することにより、配向能の付与を促進させ、配向処理速度を向上させることができる。
請求項（抜粋）：
電極及び配向膜がこの順に積層された一対の基体が前記配向膜の側で所定間隙を置いて互いに対向して配置され、液晶が前記間隙内に配されている液晶素子の製造に際し、前記基体の少なくとも一方に光反応型配向膜を形成し、この光反応型配向膜を加熱しつつ光照射して、前記光反応型配向膜に液晶配向制御能を付与する、液晶素子の製造方法。
Fターム (3件)：
2H090HC01
, 2H090MB12
, 2H090MB13
