特許

J-GLOBAL ID：200903048417714616

高活性表面修飾酸化チタン光触媒及びその製造方法

発明者： 吉岡 謙 ,  深澤 宜行 ,  上元 好仁 ,  藤井 寿 ,  奥田 徹也 ,  太田 好郎 ,  長 俊連
出願人/特許権者： 神奈川県 ,  多摩化学工業株式会社
代理人 (2件)： 成瀬 勝夫 ,  中村 智廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-277426
公開番号（公開出願番号）：特開2004-113864
出願日： 2002年09月24日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

【課題】光触媒活性を有するルチル型あるいはアナターゼ型の酸化チタンについて、その光触媒活性がより高められた高活性表面修飾酸化チタン光触媒及びその製造方法を提供する。【解決手段】結晶構造がルチル型及び/又はアナターゼ型であって、表面がオキソ酸基で修飾された酸化チタンからなる高活性表面修飾酸化チタン光触媒である。また、ルチル型及び/又はアナターゼ型の酸化チタンを過酸化水素水溶液で浸漬処理し、次いでオキソ酸水溶液で浸漬処理した後、加熱処理する高活性表面修飾酸化チタン光触媒の製造方法である。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

結晶構造がルチル型及び/又はアナターゼ型であって、表面がオキソ酸基で修飾された酸化チタンからなることを特徴とする高活性表面修飾酸化チタン光触媒。

IPC (5件)：

B01J35/02 ,  B01D53/86 ,  B01J23/30 ,  B01J27/02 ,  B01J37/02

FI (7件)：

B01J35/02 J ,  B01J23/30 A ,  B01J23/30 Z ,  B01J27/02 A ,  B01J27/02 Z ,  B01J37/02 101A ,  B01D53/36 J

Fターム (59件)：

4C080AA07 ,  4C080BB02 ,  4C080CC01 ,  4C080HH05 ,  4C080JJ01 ,  4C080KK08 ,  4C080MM02 ,  4C080QQ03 ,  4D048AA19 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA27X ,  4D048BA41X ,  4D048BA46X ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB01C ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BB10A ,  4G069BB10B ,  4G069BB13A ,  4G069BB20C ,  4G069BC54A ,  4G069BC58A ,  4G069BC59A ,  4G069BC60A ,  4G069BC60B ,  4G069BC62A ,  4G069BD01C ,  4G069BD02A ,  4G069BD02B ,  4G069BD02C ,  4G069BD07A ,  4G069BD08A ,  4G069BD08B ,  4G069CA01 ,  4G069CA05 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA17 ,  4G069CD10 ,  4G069DA05 ,  4G069EA01Y ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069EC25 ,  4G069EC27 ,  4G069FA01 ,  4G069FA08 ,  4G069FB14 ,  4G069FB17 ,  4G069FB29 ,  4G069FC04 ,  4G069FC08

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 二酸化チタンを基体とする光触媒及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-172965   出願人：チタン工業株式会社, 松下精工株式会社
• 光触媒体、その製造方法およびそれを用いてなる光触媒体コーティング剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-321026   出願人：住友化学工業株式会社
• 光触媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-093718   出願人：石原産業株式会社
• 高光触媒活性アナタース形微粒子酸化チタンおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-318643   出願人：テイカ株式会社