特許
J-GLOBAL ID：200903048431142978
真空排気方法及び真空排気装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-033835
公開番号（公開出願番号）：特開2001-221160
出願日： 2000年02月10日
公開日（公表日）： 2001年08月17日
要約：
【要約】【課題】真空処理室内を汚染することなく高い真空度を得ることが可能な真空排気方法、および真空排気装置を提供することにある。【解決手段】 真空処理室10に接続された真空ポンプ22により真空処理室内を大気圧状態より一次排気する。一次排気された真空処理室内に配置された開閉式容器34に収納されたゲッタを、開閉式容器を閉じた状態で飛散させて開閉式容器の内面にゲッタ膜を形成した後、開閉式容器を開放してゲッタ膜を真空処理室内に露出させ、真空処理室内のガスを吸着することにより真空処理室内を二次排気する。
請求項（抜粋）：
真空処理室内を大気圧状態より一次排気し、上記一次排気された真空処理室内に配置された開閉式容器に収納されたゲッタを、上記開閉式容器を閉じた状態で飛散させて上記開閉式容器の内面にゲッタ膜を形成し、上記開閉式容器を開放して上記ゲッタ膜を真空処理室内に露出させ、真空処理室内のガスを吸着することにより真空処理室内を二次排気することを特徴とする真空排気方法。
Fターム (5件)：
3H076AA23
, 3H076BB21
, 3H076BB43
, 3H076CC51
, 3H076CC99
