特許
J-GLOBAL ID:200903048434759356

絶縁膜の膜質評価装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三好 秀和 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-042720
公開番号(公開出願番号):特開平7-249668
出願日: 1994年03月14日
公開日(公表日): 1995年09月26日
要約:
【要約】【目的】絶縁膜の膜質の厚さ方向分布を高精度に評価することを目的とする。【構成】 絶縁膜の膜質を評価する装置において、絶縁膜の赤外吸収特性を測定するための吸収特性測定手段17と、絶縁膜の化学エッチングを行うための化学エッチング手段11と、絶縁膜を有する試料43を試料台3に搭載した状態で試料43を前記吸収特性測定手段17と前記化学エッチング手段11との間で繰り返し移動させための試料移動手段5を備えるようにしてある。【効果】 絶縁膜の化学エッチングを行った後に、常に試料を同一の位置に置いて膜質の評価をすることができるので、試料の位置合わせの誤差が無くなり、絶縁膜の膜質の厚さ方向分布を高精度に評価することができる。
請求項(抜粋):
絶縁膜の膜質を評価する装置において、絶縁膜を有する試料を搭載するための試料搭載手段と、絶縁膜の赤外吸収特性を測定するための吸収特性測定手段と、絶縁膜の化学エッチングを行うための化学エッチング手段と、前記吸収特性測定手段と前記化学エッチング手段との間で、前記試料を前記試料搭載手段に搭載した状態のまま繰り返し移動させるための試料移動手段とを備えることを特徴とする絶縁膜の膜質評価装置。
IPC (2件):
H01L 21/66 ,  H01L 21/306

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