特許

J-GLOBAL ID：200903048441972677

過酸化水素製造用電解槽及び過酸化水素の電解的製造方法

発明者： 中松 秀司 ,  錦 善則 ,  脇田 修平
出願人/特許権者： ペルメレック電極株式会社 ,  デ・ノラ・ペルメレク・ソチエタ・ペル・アツィオーニ
代理人 (1件)： 森 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-062685
公開番号（公開出願番号）：特開平6-248482
出願日： 1993年02月26日
公開日（公表日）： 1994年09月06日
要約：

【要約】【目的】 腐食性の陰極液に対する耐性を有しないため従来の過酸化水素の電解的製造には使用できなかったガス陰極の過酸化水素の電解的製造での使用を可能にする。【構成】 陽イオン交換膜2により陽極室3と区画された過酸化水素製造用電解槽1の陰極室4をガス陰極8に密着する陰イオン交換膜6により腐食性陰極液が存在する溶液室7とガス陰極8が収容されたガス室10に区画する。ガス陰極8が陰イオン交換膜6の存在により直接前記陰極液と接触することがなく、更にガス室内に本来的に腐食性物質が存在しないことに加えて陰極液のガス室10へのリークも前記陰イオン交換膜6が阻止し間接的接触もなくなるため、ガス陰極の長寿命化を達成できる。更に前記リークは電解槽を大型化しても防止できるため、従来のガス電極では達成できなかった工業的規模での電解にも適用できる。

請求項（抜粋）：

陽イオン交換膜により陽極を収容する陽極室とガス陰極を収容する陰極室とに区画され、更に該陰極室が前記ガス陰極に密着する陰イオン交換膜により前記陽極室と接する溶液室と前記ガス陰極を収容するガス室とに区画されたことを特徴とする過酸化水素製造用電解槽。

IPC (2件)：

C25B 9/00 ,  C25B 1/30

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特公昭31-006616
  
• 特開昭54-132498
  
• 特開昭56-047578
  
• 特開昭56-069384