特許

J-GLOBAL ID：200903048443957551

トリフエニレン化合物の合成方法

発明者： 河田 憲
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-128598
公開番号（公開出願番号）：特開平7-330650
出願日： 1994年06月10日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：

【要約】【目的】ディスコティック液晶の母核として有用なトリフェニレン環を効率的に合成する方法を提供する。【構成】(1)少なくとも1,2-ジアルコキシベンゼン及び塩化第二鉄水溶液の混合物中に濃硫酸を添加することを特徴とする、2,3,6,7,10,11-ヘキサアルコキシ置換トリフェニレンの合成方法、または(2)1,2-ジアルコキシベンゼンを、少なくとも濃硫酸と硫酸第二鉄の存在下で反応させることを特徴とする、2,3,6,7,10,11-ヘキサアルコキシ置換トリフェニレンの合成方法。

請求項（抜粋）：

少なくとも1,2-ジアルコキシベンゼン及び塩化第二鉄水溶液の存在する混合物中に濃硫酸を添加することを特徴とする、2,3,6,7,10,11-ヘキサアルコキシ置換トリフェニレンの合成方法

IPC (22件)：

C07C 43/20 ,  C07C 41/30 ,  C07C 43/215 ,  C07C 43/225 ,  C07C 43/23 ,  C07C 47/277 ,  C07C 49/255 ,  C07C 57/40 ,  C07C 57/42 ,  C07C205/17 ,  C07C205/32 ,  C07C233/11 ,  C07C255/13 ,  C07C313/06 ,  C07C321/10 ,  C07D213/30 ,  C07D295/08 ,  C07D303/27 ,  C07D493/14 ,  C09B 57/00 ,  G02F 1/13 500 ,  C07B 61/00 300