特許
J-GLOBAL ID：200903048448628971
光加熱装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-265851
公開番号（公開出願番号）：特開平5-104279
出願日： 1991年10月15日
公開日（公表日）： 1993年04月27日
要約：
【要約】【目的】 キセノンランプなどの発光部の集光部を被加熱物に照射する光加熱装置において照射される被加熱物の周辺の酸素濃度を低下させ、加熱中に発生する酸化作用に起因するはんだ付け不良を減少させ、かつ、はんだ付けの作業能率も向上させることを目的とする。【構成】 光を集光する楕円反射鏡2,集光レンズ7を用いて被加熱物5を加熱,溶融する周辺に、ガスボンベ11,ガスレギュレータ12,ガスバルブ13,ガスノズル10よりなる酸素濃度が5%以下のシールドガスの供給手段、さらにシールドガスの供給経路にガス温度調整器14を備えた構成により、光照射中に発生する酸化作用に起因するはんだ付け不良を減少でき、しかもガス温度調整器14によりシールドガスの温度を高めることで、被加熱物5を予熱して作業能率を向上できる。
請求項（抜粋）：
キセノンランプまたはYAGレーザ発振器などの発光部と、前記発光部の光の集光部を有する集光手段を備え、前記集光部の近傍に位置させた被加熱物に集光した光を照射して、前記被加熱物を加熱,溶融する光加熱装置であって、前記被加熱物の周辺の雰囲気の酸素濃度を5%以下とするシールドガスの供給手段を備えた光加熱装置。
IPC (3件)：
B23K 26/12
, B23K 1/005
, B23K 26/00
