特許

J-GLOBAL ID：200903048464719111

超臨界水製造装置および超臨界水有機物処理設備

発明者： 三浦 俊彦
出願人/特許権者： 東芝エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 波多野 久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-061743
公開番号（公開出願番号）：特開2002-263634
出願日： 2001年03月06日
公開日（公表日）： 2002年09月17日
要約：

【要約】【課題】省エネルギー化を図った超臨界水製造装置およびこの超臨界水製造装置を使用した超臨界水有機物処理設備を提供する。【解決手段】原水aを昇圧装置6および昇温装置7により臨界点を超える圧力・温度条件まで加圧および加熱して超臨界水gを製造する超臨界水製造装置3において、昇圧装置6は、静水頭により原水aを超臨界水gに必要な圧力状態まで加圧する静水頭確保用立ち上げ配管8を主体として構成する一方、昇温装置7は、太陽熱dにより原水aを超臨界水gに必要な温度状態またはその予備的温度状態まで加熱する太陽光集光集熱装置9を主体として構成していることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

原水を昇圧装置および昇温装置により臨界点を超える圧力・温度条件まで加圧および加熱して超臨界水を製造する超臨界水製造装置において、前記昇圧装置は、静水頭により原水を超臨界水に必要な圧力状態まで加圧する静水頭確保用立ち上げ配管を主体として構成する一方、前記昇温装置は、太陽熱により原水を超臨界水に必要な温度状態またはその予備的温度状態まで加熱する太陽光集光集熱装置を主体として構成していることを特徴とする超臨界水製造装置。

IPC (4件)：

C02F 1/02 ,  B01J 3/00 ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00

FI (4件)：

C02F 1/02 Z ,  B01J 3/00 A ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 304 Z

Fターム (11件)：

4D004AA02 ,  4D004AA08 ,  4D004AB06 ,  4D004AB08 ,  4D004AC04 ,  4D004CA39 ,  4D004CB31 ,  4D004CB32 ,  4D004CC03 ,  4D034BA03 ,  4D034DA01