特許

J-GLOBAL ID：200903048497972076

キレート型イオン吸着膜および製造方法

発明者： 堀 隆博 ,  松田 孝
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
代理人 (1件)： 清水 猛 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-192715
公開番号（公開出願番号）：特開平7-024314
出願日： 1993年07月08日
公開日（公表日）： 1995年01月27日
要約：

【要約】【目的】 透水量、耐溶出性、化学的耐久性に優れたキレート型イオン吸着膜。【構成】 ?@ 多孔膜に電離性の放射線を照射し、メタクリル酸グリシジルおよび架橋剤をグラフト共重合させ、さらに該グラフト共重合膜にキレート形成基を導入すること。?A 多孔膜基材の構造は三次元網目構造を有し、平均孔径が0.01〜5μm、空孔率が20〜90%である。?B 多孔膜基材の形状は内径0.05〜5mm、肉厚0.01〜2mmの中空糸状。【効果】 半導体産業における超純水製造システム、廃液処理等の各種溶液処理に高効率のシステムを提供し、高純度の処理水を安定して供給できる。

請求項（抜粋）：

多孔膜に電離性の放射線を照射し、メタクリル酸グリシジルおよび架橋剤をグラフト共重合させてグラフト共重合膜を得、さらに該グラフト共重合膜にキレート形成基を導入することを特徴とする、キレート型イオン吸着膜の製造方法。

IPC (6件)：

B01J 20/26 ,  B01J 47/12 ,  C02F 1/62 ,  C08F220/18 MMC ,  C09K 3/00 106 ,  C08J 5/22