特許

J-GLOBAL ID：200903048498002674

光学薄膜の製造方法及び光学薄膜

発明者： 村田 剛
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-255075
公開番号（公開出願番号）：特開2000-085025
出願日： 1998年09月09日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：

【要約】【課題】 ゾル-ゲル法を用いて光学薄膜を形成する場合に、基板形状の選択性を広げるとともに不要成分が少なく、容易に均一な膜質・膜厚の光学薄膜を形成する方法を提供する。【解決手段】 基板上に光学薄膜材料ゾルを塗布し、ゲル膜を堆積させた後、液体に浸漬し、前記液体の温度及び圧力を臨界状態以上にして前記液体を気化乾燥させると同時にゲル膜中の不要成分を除去することを特徴とする光学薄膜の製造方法。

請求項（抜粋）：

基板上に光学薄膜材料ゾルを塗布し、ゲル膜を堆積させた後、液体に浸漬し、前記液体の温度及び圧力を臨界状態以上にして前記液体を気化乾燥させると同時にゲル膜中の不要成分を除去することを特徴とする光学薄膜の製造方法。

IPC (3件)：

B29D 11/00 ,  G02B 1/11 ,  G02B 5/28

FI (3件)：

B29D 11/00 ,  G02B 5/28 ,  G02B 1/10 A

Fターム (22件)：

2H048GA03 ,  2H048GA09 ,  2H048GA11 ,  2H048GA27 ,  2H048GA60 ,  2K009AA04 ,  2K009BB04 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  4F213AB17 ,  4F213AG01 ,  4F213AH73 ,  4F213WA03 ,  4F213WA53 ,  4F213WA57 ,  4F213WA58 ,  4F213WA67 ,  4F213WA90 ,  4F213WB01 ,  4F213WC02 ,  4F213WF01 ,  4F213WF24