特許
J-GLOBAL ID:200903048510679189
基材フィルム及びそれを用いた感光性写真材料
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-033404
公開番号(公開出願番号):特開平8-224795
出願日: 1995年02月22日
公開日(公表日): 1996年09月03日
要約:
【要約】【目的】 写真フィルム製版用基材フィルム、プリント配線基板用原画フィルム等の支持体として好適に用いられる高寸法安定性を有する基材フィルム及びその基材フィルムを用いた感光性写真材料に関する。【構成】 プラスチックフィルム(A)に真空薄膜形成技術によって、SiO2層(B)を設け、その片面または両面に真空薄膜形成技術によって、SiOx(xは1.0より大きく,2.0未満)及びアルカリ土類金属のフッ化物からなる薄膜層(C)を形成してなる基材フィルムである。
請求項(抜粋):
プラスチックフィルム(A)の片面または両面に真空薄膜形成技術によって、SiO2層(B)を設け、その片面または両面に真空薄膜形成技術によって、SiOx(xは1.0より大きく,2.0未満)及びアルカリ土類金属のフッ化物からなる薄膜層(C)を形成してなる基材フィルム。
IPC (4件):
B29D 7/01
, B29C 71/00
, G03C 1/795
, H05K 3/00
FI (4件):
B29D 7/01
, B29C 71/00
, G03C 1/795
, H05K 3/00 E
引用特許: