特許
J-GLOBAL ID：200903048516586050
マイクロ機械装置の製造法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-154928
公開番号（公開出願番号）：特開平8-062517
出願日： 1995年06月21日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：
【要約】【目的】 ディジタル・マイクロ・ミラー装置のようなマイクロ機械装置をマスクを用いないで効率よく製造できる製造法を提供する。【構成】 まず、上側反射表面を備えた支持素子が作成され、次に、フォトレジスト材料の層が、前記支持素子の上に、それらの上側反射表面を事実上被覆する厚さにまで沈着される。前記フォトレジスト層に露光が行われる。この露光において、前記支持素子の上の面積領域の上の露光が、前記支持素子の間の面積領域の上の露光よりも強く行われる。このことにより、前記支持素子の間のフォトレジストを前記支持素子の前記上側反射表面と同じ高さにまで除去することができ、一方前記支持素子のフォトレジストを確実に除去することができる。
請求項（抜粋）：
基板の上に取り付けられた支持素子により支持されかつ前記基板から離れた位置に自由端部を有する可動素子を備えた、マイクロ機械装置を製造する方法であって、前記支持素子の前記自由端部に放射エネルギに対する反射特性を備えさせる段階と、前記支持素子の前記自由端部を被覆するのに十分な初期厚さにまで前記基板の上にフォトレジスト層を沈着する段階と、前記フォトレジスト層の自由表面をマスクを用いることなく放射エネルギで全面を露光する段階と、前記支持素子の前記自由端部と、残っている厚さの減少したフォトレジストの自由表面と、を有する事実上平坦でかつ連続した素子支持表面を得るために前記フォトレジストを現像する段階と、前記素子支持表面の上に沈着された材料から前記可動素子を作成する段階と、残っているフォトレジストを除去する段階と、を有する前記方法。
IPC (2件)：
G02B 26/08
, H01L 21/3065
