特許

J-GLOBAL ID：200903048534914669

密閉型ウエハ洗浄装置

発明者： 石山 弘
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-182852
公開番号（公開出願番号）：特開平10-012585
出願日： 1996年06月24日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：

【要約】【課題】 低圧力で密閉を可能にし、構造が簡単で小型化が図れ、パーティクルの発生が少なく、またメンテナンス時において定期交換等を不要にする。【解決手段】 ウエハを洗浄する洗浄液Wを収容する洗浄槽1と、洗浄槽1の外周に設けられたシール液Waを収容する外槽2と、外槽2のシール液Waを介して外槽2上に設けられた密閉上蓋3を具備した。

請求項（抜粋）：

ウエハを洗浄する洗浄液を収容する洗浄槽と、該洗浄槽の外周に設けられたシール液を収容する外槽と、該外槽のシール液を介して洗浄槽を密閉する外槽上に設けられた密閉上蓋を具備したことを特徴とする密閉型ウエハ洗浄装置。