特許

J-GLOBAL ID：200903048543074444

リソグラフィーマスク

発明者： 一色 史雄 ,  伊藤 顕知 ,  保坂 純男
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-056603
公開番号（公開出願番号）：特開2000-250200
出願日： 1999年03月04日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：

【要約】【課題】リソグラフィーマスクの微小な光の透過窓における光の透過効率や、ウエハとの接触性を改善する。【解決手段】遮光膜に形成された透過窓を、透明な誘電体物質で充填した凸型構造とする。透過窓は遮光膜の一部をレジストを用いた選択的な酸化・水酸化・窒化または弗化や、微小探針等を用いて行う通電酸化(陽極酸化)、スポット加熱による熱酸化等で形成する。【効果】化学変化により、透明窓となる誘電体物質が遮光膜表面よりも凸型に張り出す。これにより試料面と透明窓の距離を接近させることができ、ニアフィールド光を効率良く対象物表面まで供給できる。

請求項（抜粋）：

光学的に不透明または半透明で有限の厚さを持つ遮光膜部分と、遮光膜部分より高い透過率を持つ透過窓部分より成る、光の透過する領域を限定するための光学的手段、またはニアフィールド光を発生させるための光学的手段において、その透過窓部分が、誘電体物質により充填されており、かつその透過窓部分のみが選択的に遮光膜表面よりも凸型に突き出していることを特徴とするリソグラフィーマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/14 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/14 Z ,  G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (4件)：

2H095BA03 ,  2H095BB27 ,  2H095BC05 ,  2H095BC24