特許

J-GLOBAL ID：200903048546375704

DNA増幅装置

発明者： 小林 良二
出願人/特許権者： サーモジェン有限会社
代理人 (1件)： 下田 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-358188
公開番号（公開出願番号）：特開2005-117987
出願日： 2003年10月17日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：

【課題】 ペルチェ素子の半田接合部における接触不良や断線等の熱応力破壊を防止し、サーモモジュールの耐久性(寿命)を飛躍的に高める。また、加熱冷却性能を高めるとともに、均質なDNA増幅を実現する。【解決手段】 DNA検体を含む反応溶液を収容可能なセル部C...を有する処理ブロック2と、この処理ブロック2を加熱冷却するペルチェ素子d...を用いたサーモモジュール3...と、少なくともサーモモジュール3...に対する通電制御を行うコントローラ4を備えるとともに、さらに、サーモモジュール3...の放熱側3r...に当接し、かつ厚さLsを略4〔mm〕以上に選定した銅素材による放熱銅盤5と、この放熱銅盤5を冷却可能な冷却手段6を備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

DNA検体を含む反応溶液を収容可能な一又は二以上のセル部を有する処理ブロックと、この処理ブロックを加熱冷却するペルチェ素子を用いた一又は二以上のサーモモジュールと、少なくとも前記サーモモジュールに対する通電制御を行うコントローラを備えるDNA増幅装置において、前記サーモモジュールの放熱側に当接し、かつ厚さを略4〔mm〕以上に選定した銅素材による放熱銅盤と、この放熱銅盤を冷却可能な冷却手段を備えてなることを特徴とするDNA増幅装置。

IPC (2件)：

C12M1/00 ,  C12N15/09

FI (2件)：

C12M1/00 A ,  C12N15/00 A

Fターム (12件)：

4B024AA20 ,  4B024BA80 ,  4B024CA01 ,  4B024HA19 ,  4B029AA07 ,  4B029AA12 ,  4B029AA23 ,  4B029BB20 ,  4B029FA15 ,  4B029GA02 ,  4B029GB01 ,  4B029GB09

引用特許：

出願人引用 (1件)

• DNA増幅装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-376962   出願人：株式会社安川電機